晶圆光刻胶去除能用等离子清洗机吗？该使用哪种设备？
文章导读：在半导体行业中，晶圆清洗是一个必不可少的环节，其中晶圆残留光刻胶的去除，就能够用等离子清洗机进行处理的。那么晶圆光刻胶去除所用的等离子清洗设备该用哪种呢？
在晶圆光刻胶去除的实际应用中，基本都会采用感应耦合式的真空低压等离子清洗机，这种类型的等离子清洗机仿佛也逐渐成为半导体行业的专属，那么这类等离子清洗设备的结构和一般常见的等离子处理设备有什么不同的地方呢？
等离子清洗机感应放电等离子体是通过将射频功率加在一个非共振线圈上产生的。因此该种等离子清洗机的常见结构主要有两种，都适用在低长宽比的放电系统中。其中一种常见结构是螺旋型结构，采用的是圆筒螺旋状线圈类型，如下图所示。
另一种常见结构是盘香型结构，采用的是平面盘绕状线圈类型如下图所示。
此外，有一种较为特别的盘香型结构是将盘绕状线圈加入等离于体内部的放电类型，其结构如下图所示。
感应耦合式的等离子清洗设备具有较为特别的基本原理和特点，因此在设计过程中要对工艺和效率进行把控，才能保证良好的等离子表面处理效果。在此简单提一点，用于处理LCD液晶屏的等离子清洗机，就是使用的内置盘绕状线圈感应生成等离子体。
普乐斯从2011年开始涉足半导体行业至今已有9年，专注研制等离子清洗机，等离子体清洗机，等离子清洗设备，常压大气和低压真空型低温等离子表面处理机，在光刻胶去除、打线即W/B前清洗和塑封即Molding前活化等工艺方面积累了较为丰富的等离子表面处理经验，合作客户接近20家，我们正努力成为半导体封装领域的等离子表面处理工艺解决方案服务商。是行业内值得信赖的等离子清洗机厂家。等离子表面处理过的样品包括：硅晶圆、玻璃基板、陶瓷基板、IC载板、铜引线框架等。如果您想要了解更多关于产品的详细内容或在设备使用中有疑问，欢迎点击普乐斯的在线客服进行咨询，或者直接拨打全国统一服务热线400-816-9009，普乐斯恭候您的来电！
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