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0419-09

北大教授：中国半导体赶上美国还需5-10年！ 半导体代表了信息时代的基石技术。这些微型设备在一系列产品中充当数据处理大脑，从个人电脑、智能手机到汽车和宇宙飞船等等，可谓驱动着全球范围的现代经济发展。尽管多年来中国在半...
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0419-09

DBD等离子体实验设备可以处理什么？ DBD等离子体实验设备的工作原理是由工件随传送带电极匀速运动，给电极两端施加高频交流高压，使两电极间的气体电离产生气体弧光放电面形成等离子体区，工件在等离子体区匀速通过，从...
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0319-09

等离子表面处理机究竟是什么？有哪些典型应用领域？ 等离子表面处理机利用等离子体的物理和化学特性，在材料表面形成致密的物质层或含氧基团，是材料表面特性发生变化，提高表面亲水性、粘接性等，在诸多行业中都有应用。等离子体处理...
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0319-09

我国半导体市场现状或将呈现整合态势 特别是IC设计，由于进入门槛相对较低，又有产业政策和资金的支持，使得IC设计及相关服务公司的数量快速增长。来自于中国半导体行业协会的统计显示：到2018年，全国共有1698家IC设计企业，...
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0319-09

实验型小型等离子表面处理设备是什么样的？ 实验型小型等离子表面处理设备的共性特点是比较小巧，一般使用在大学院校及实验室居多，普乐斯就以为大家整理出实验型小型等离子表面处理设备的一些特点、参数以及应用的方向，供大...
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0219-09

12英寸集成电路项目落户江苏无锡 据锡山发布报道，此次吉姆西半导体投资建设的集成电路先进制程技术及装备研发制造项目计划分两期建设，一期投产时间预计为2021年第1季度，二期建设时间为2023年~2025年，项目建成达产后，...
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0219-09

等离子刻蚀在晶圆和线路板领域的使用 一、晶圆制造行业应用在晶圆制造行业中光刻机利用四氟化碳气体进行硅片的线路刻蚀，等离子清洗机利用四氟化碳进行氮化硅刻蚀及光刻胶去除。等离子刻蚀利用纯四氟化碳气体或四氟化碳与氧气配合的方式可对晶圆制造中的氮化硅进行微米级的刻蚀，利用四氟化碳与氧气或氢气配合的方式可对微米级的光刻胶进行去除。二、线路板制造行业应用等离子清洗机的刻蚀在线路...
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0219-09

等离子表面刻蚀常用四氟化碳？ 等离子清洗机的功能主要包括清洗、活化、接枝（沉积）及刻蚀，实现这些功能除对放电方式和电极结构有要求外，工艺气体的选择也是非常重要的，特别是等离子表面刻蚀功能。四氟化碳是实现刻蚀功能的一种常规气体。一、等离子刻蚀为什么常用四氟化碳刻蚀通常又会被称为蚀刻、咬蚀、凹蚀等，刻蚀作用是利用典型的气体组合形成具有强烈蚀刻性的气相等离子体与物体...
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3019-08

为何说中国将加速推动半导体行业发展 2015年5月发布的政策，提出了到2020年IC芯片自给率达到40%、2025年达到70%的具体目标。显然，中国的目标是加速半导体产业的发展并减少对芯片进口的依赖。为了实现这些目标，中国政府于2014年...
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3019-08

华为海思或有望超越苹果，成为台积电第1大客户 海思是华为旗下的半导体子公司，前身是创建于1991年的华为集成电路设计中心。据官网信息，海思总部位于深圳，已在北京、上海、成都、武汉、新加坡、韩国、日本、欧洲等世界各地的办事...