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提前半年?ASML新一代光刻机预计明年年中出货,普乐斯等离子清洗机

返回列表 来源:普乐斯 浏览: 发布日期:2020-10-15 10:46【
文章导读:普乐斯等离子清洗机引用TechWeb、网易科技相应内容,据了解,ASML所正研发的第3款极紫外光刻机预计将于2021年中开始出货。
       普乐斯等离子清洗机引用TechWeb、网易科技相应内容,据了解,ASML所正研发的第3款极紫外光刻机预计将于2021年中开始出货。
提前半年?ASML新一代光刻机预计明年年中出货-普乐斯等离子清洗机
       据了解,荷兰ASML在其三季度的财报中指出,其新款光刻机预计将在2021年年中开始出货的,新款光刻机的生产效率约将有18%的提升,在30mJ/cm2的曝光速度下每小时可处理的晶圆数可达160片。如果这款光刻机与ASML之前2019年的年报中提及的新光刻机为同一款的话,那么ASML的新款光刻机的出货时间,就较原计划提前约半年。
提前半年?ASML新一代光刻机预计明年年中出货-普乐斯等离子清洗机
       ASML的极紫外光刻机对先进芯片制程工艺的重要性就不用多说了,台积电和三星这两的7nm和5nm工艺,都必须依靠ASML的EUV光刻机,预计新款EUV光刻机出货后,也将由台积电和三星先开始使用。
提前半年?ASML新一代光刻机预计明年年中出货-普乐斯等离子清洗机
       此外,ASML目前的两款EUV光刻机,都是采用的波长为13.5nm的极紫外光源,在20mJ/cm2的曝光速度下,其每小时的晶圆处理量分别能达125片和170片。

本文来源:TechWeb、网易科技
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