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普乐斯等离子清洗设备行业观察,3纳米已渐行渐近

返回列表 来源:普乐斯 浏览: 发布日期:2020-01-16 09:23【
文章导读:普乐斯等离子清洗设备行业观察,大家都知道,制程越小,晶体管栅极越窄,功耗越低,而集成难度和研发成本也将加倍提升。3nm是一个将近物理ji限的节点,这需要产业链各个环节的努力。
普乐斯等离子清洗设备行业观察,身为摩尔定律忠实的跟随者与倡导者,台积电、三星已经挑起3nm的战局。据了解,三星已经完成了第1个3nm制程的开发,准备2022年规模生产3nm芯片,先前台积电也准备2022年量产3nm。如果没有意外,3nm芯片将在后年来临,对半导体产业链提出新的挑战。
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有报道称,三星已成功研发出第1个基于GAAFET的3nm制程,预估2022年进入量产。与7nm工艺相比,3nm工艺可将核心面积减少45%,功耗降低50%,性能提升35%。按照三星的研发路线图,在6nmLPP之后,还有5nmLPE、4nmLPE两个节点,随后进入3nm节点,分为GAE(GAAEarly)以及GAP(GAAPlus)两代。去年5月,三星的3nmGAE设计套件0.1版本已经就绪,以协助客户尽快启动3nm设计。三星预估该技术将在下一代手机、网络、自动驾驶、人工智能及物联网等设备中应用。
 
以2022年量产为目标的台积电,也在按计划推进3nm研发。台积电ceoCCWei曾表示,台积电在3nm节点技术开发进展顺利,已经与早期客户进行接触。台积电投资6000亿新台币的3nm宝山厂也于去年通过了用地申请,预估2020年动工,2022年量产。
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台积电在7nm节点取得了jue对优势,在5nm也进展顺利,获得了苹果A14等订单。但三星并没有放松追逐的脚步,准备到2030年前在半导体业务投资1160亿美元,以增强在非内存芯片市场的实力。台积电创始人张忠谋此前对媒体表示,台积电与三星的战争都还没结束,台积电仅仅 赢得了一两场战役,可整个战争都还没赢,目前台积电暂时占优。

本文来源:中国电子报 作者:张心怡 
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