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0219-09

等离子刻蚀在晶圆和线路板领域的使用 一、晶圆制造行业应用在晶圆制造行业中光刻机利用四氟化碳气体进行硅片的线路刻蚀，等离子清洗机利用四氟化碳进行氮化硅刻蚀及光刻胶去除。等离子刻蚀利用纯四氟化碳气体或四氟化碳与氧气配合的方式可对晶圆制造中的氮化硅进行微米级的刻蚀，利用四氟化碳与氧气或氢气配合的方式可对微米级的光刻胶进行去除。二、线路板制造行业应用等离子清洗机的刻蚀在线路...
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0219-09

等离子表面刻蚀常用四氟化碳？ 等离子清洗机的功能主要包括清洗、活化、接枝（沉积）及刻蚀，实现这些功能除对放电方式和电极结构有要求外，工艺气体的选择也是非常重要的，特别是等离子表面刻蚀功能。四氟化碳是实现刻蚀功能的一种常规气体。一、等离子刻蚀为什么常用四氟化碳刻蚀通常又会被称为蚀刻、咬蚀、凹蚀等，刻蚀作用是利用典型的气体组合形成具有强烈蚀刻性的气相等离子体与物体...
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3019-08

为何说中国将加速推动半导体行业发展 2015年5月发布的政策，提出了到2020年IC芯片自给率达到40%、2025年达到70%的具体目标。显然，中国的目标是加速半导体产业的发展并减少对芯片进口的依赖。为了实现这些目标，中国政府于2014年...
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3019-08

华为海思或有望超越苹果，成为台积电第1大客户 海思是华为旗下的半导体子公司，前身是创建于1991年的华为集成电路设计中心。据官网信息，海思总部位于深圳，已在北京、上海、成都、武汉、新加坡、韩国、日本、欧洲等世界各地的办事...
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3019-08

厂家告诉你：等离子清洗机能清洗什么 等离子清洗机的表面处理工艺是一种全程干燥处理的清洗方式，不同于传统、单一的清洗模式，等离子清洗机具有多重功能，如表面清洗、表面活化、表面刻蚀、表面涂镀，如果先仅仅从表面...
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2919-08

半导体设备的全球布局情况 在整个半导体设备市场中，晶圆制造设备大约占整体的80%，封装及组装设备大约占7%，测试设备大约占9%，其他设备大约占4%。而在晶圆制造设备中，光刻机，刻蚀机，薄膜沉积为核心设备，分别...
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2919-08

2019中国医疗器械展9月开幕 今年Medtec中国将汇聚yi疗设计和研发、原材料、精密部件、模具、yi疗自动化设备、法规咨询及生产制造服务等领域的450多个优质品牌参展，其中逾 150家参展企业第1次加盟Medtec中国展。2019Medt...
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2919-08

为你简单分析：等离子清洗机品牌哪家好？ 相信您已经对等离子清洗机的作用、特性、功能有了或多或少的了解，在这里首先反问一下，您对需处理的产品形貌特征、耐候温度、产量要求、均匀性要求、处理目的、生产场地的环境等是...
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2819-08

中国芯片产业在困境中前行 中国半导体协会与国家统计局统计，中国芯片产量增速自2013至2017年，在波动中达到平均15%，年产量也从903亿块增长至1565亿块，但总体来看，中国芯片供给市场仍大量依靠国外进口。2015年芯片...
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2819-08

真空等离子清洗机单级旋片真空泵保养流程 很多人并不清楚单级旋片真空泵的保养，有未接触过等离子表面处理设备的，也有因为时间长而遗忘的，普乐斯再为大家介绍一下单级旋片真空泵的保养流程。真空等离子清洗机单级旋片真空...