真空室：放置需要清洗的硅片，是等离子清洗的实际操作区域；
真空系统：包括真空泵和各种真空阀门、计量仪器等，用于将真空室内的压力降低到所需范围内；
等离子发生器：设备核心部件，产生等离子体的重要设备；
气体控制系统：用于控制气体的流量、压力等参数；
控制系统：控制系统用于控制设备的运行状态和参数设置。
1、硅片放置：将需要清洗的硅片放置在真空室内；
2、真空处理：使用真空泵将真空室内的压力降低到一定程度；
3、加气体：通过气体控制系统加入氢气、氮气等气体，使其在等离子发生器的作用下转化为等离子体。
4、清洗：等离子体中的离子和自由基与硅片表面发生反应，可以去除表面的污染物和氧化层等。
5、气体清除：清洗结束后，通过气体控制系统排出氢气、氮气等气体，避免对硅片造成影响。
6、通气：使用真空泵将真空室内的气体排出，恢复环境压强。
7、取出硅片：将清洗完的硅片取出。
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