半导体封装领域所用的等离子清洗设备可分为独立式和在线式两种。独立式又可称为单体式的等离子清洗设备，采用的是料盒式的反应腔体；在线式的等离子清洗设备也叫连续式设备，包括完整的自动上下料系统。半导体封装的等离子清洗设备用于打线、封胶、植球前的基板清洗，提高产品良率；对于铜支架打铜线的工艺效率尤为明显。
等离子清洗设备在半导体封装中的实际使用有：
1.清洗引线框架，提高打线和封装的可靠性；
2.引线键合，能够清除污染物，并使其表面粗糙度增加，提高键合时的拉力值；
3.倒装芯片封装，对芯片和封装所用载板进行处理，提高表面活性，能够有效防止虚焊以及减少空洞，提高产品可靠性和使用寿命；
4.陶瓷封装前等离子清洗可去除有机物污染，提高镀层的质量和品质。
此外，材料在等离子清洗设备处理前后的对比也可使用接触角测试仪进行实验验证。
普乐斯从2011年开始涉足半导体行业至今已有8年，在光刻胶去除、打线即W/B前清洗和塑封即Molding前活化等工艺方面积累了较为丰富的等离子表面处理经验，合作客户接近20家，我们正努力成为半导体封装领域的离子表面处理工艺解决方案服务商。等离子表面处理过的样品包括：硅晶圆、玻璃基板、陶瓷基板、IC载板、铜引线框架等。如果您想要了解更多关于产品的详细内容或在设备使用中有疑问，欢迎点击普乐斯的在线客服进行咨询，或者直接拨打全国统一服务热线400-816-9009，普乐斯恭候您的来电！
1.清洗引线框架，提高打线和封装的可靠性；
2.引线键合，能够清除污染物，并使其表面粗糙度增加，提高键合时的拉力值；
3.倒装芯片封装，对芯片和封装所用载板进行处理，提高表面活性，能够有效防止虚焊以及减少空洞，提高产品可靠性和使用寿命；
4.陶瓷封装前等离子清洗可去除有机物污染，提高镀层的质量和品质。
此外，材料在等离子清洗设备处理前后的对比也可使用接触角测试仪进行实验验证。
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