半导体器件放置：将需要清洗的半导体器件放置在清洗室中。
真空处理：使用真空泵系统将清洗室的环境压强降低到一定程度。
加气体：通过气体控制系统加入氢气、氧气等气体，使其在高频电场的作用下转化为等离子体。
清洗：等离子体中的离子和自由基与表面的有机物、金属等杂质发生反应，将其分解、氧化、还原等，最终清除表面杂质。
气体清除：清洗结束后，通过气体控制系统排出氢气、氧气等气体，避免对半导体器件造成影响。
通气：使用真空泵系统将清洗室内的气体排出，恢复环境压强。
自动化等离子清洗机注意事项
1、温度：不同产品对温度的能耐程度是不一样的，所以要考虑冷却，控制处理室内的温度。
2、时间：处理时间是经过验证的，不要随意进行改动以免影响处理效果。
3、气体：不同气体的处理效果不一，合适的气体配方才能获得好的处理效果。
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