微波激发等离子体：通过微波电磁场（频率通常为2.45 GHz）将气体（如氧气、氩气、氮气等）电离，形成高能等离子体。
表面反应：等离子体中的活性粒子（离子、电子、自由基等）与材料表面污染物发生物理轰击或化学反应，分解有机物、氧化物等，实现清洁或改性。
结构组成
微波发生器：产生高频微波，核心部件之一。
真空腔体：维持低压环境，确保等离子体稳定生成。
供气系统：控制反应气体种类和流量。
样品台：可旋转或移动，确保处理均匀。
控制系统：自动化操作，调节功率、压力、时间等参数。
半导体制造：用于芯片制造过程中的光刻胶去除、晶圆表面清洗、刻蚀等工艺，提高芯片的制造精度和性能。
电子器件制造：对电子元件如电路板、电子封装材料等进行表面清洗和活化，增强焊接效果，提高电子器件的可靠性和稳定性。
光学领域：清洗光学镜片、光学薄膜等表面的油污、灰尘和有机物，提高光学元件的透光率和光学性能，同时可用于光学元件的表面改性，改善其抗反射、抗污染等特性。
生物医学：对生物材料、医疗器械等进行表面处理，如提高生物材料的生物相容性、对医疗器械表面进行消毒和活化，有利于细胞的粘附和生长，以及后续的涂层和修饰等。
航空航天：处理航空航天材料表面，如去除表面氧化层、增强涂层附着力等，提高材料的性能和使用寿命，确保航空航天部件的可靠性和安全性。
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