
一、特点:
等离子体物理气相沉积:这种工艺中沉积粒子的能量可调节,在等离子体非平衡过程中,整个反应活性更高,膜层质量也更出色。
等离子体化学气相沉积:这种工艺中膜的纯度高、结晶状态好、致密性好,在反应中气体与反应物互相扩散,膜的附着力得到了保证,有利于膜的贴合,同时抗蚀、耐磨、钝化等效果也出色。

等离子体物理气相沉积:在反应中通过蒸发、溅射等物理的方式是镀膜材料气化,随后在基体表面沉积成膜。
等离子体化学气相沉积:直接使用气态或者蒸发态的物质在气相或气固界面进行翻译,生产固态的沉积物,结晶成膜。
三、应用:
等离子体物理气相沉积:这项技术在工业应用中已经广泛使用,实现了工业化的生产。
等离子体化学气相沉积:镀膜的产品涉及行业广泛,实用性得到了很多行业的认可。

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