今天我们来聊一下非接触除尘设备在半导体清洗领域的应用,说起半导体清洗,是指对晶圆表面进行无损伤清洗,用于去除半导体硅片制造、晶圆制造和封装测试每个步骤中可能产生的杂质,避免杂质影响芯片良率和性能。而非接触精密除尘设备可以大幅提升芯片良率,为企业实现降本增效的目的。

在硅片制造环节,经抛光后的硅片,需要通过非接触精密除尘设备这样的清洗工艺来保证其表面的平整度和性能,从而提高在后续工艺中的良率;
在晶圆制造环节,晶圆经过光刻、刻蚀、沉积等关键工序前后均需要清洗,去除晶圆沾染的化学杂质,减小缺陷率;
在芯片封装阶段,芯片需要根据封装工艺进行 TSV( 硅穿孔)清洗、除尘、UBMRDL(凸点底层金属/薄膜再分布技术)清洗、除尘。

目前市场上70%左右的企业都使用湿法清洗,而干法清洗正在不断的被人们所熟知以及应用,原因在于精密器件、高精尖的材料或者特殊材料需要干式清洗。从工艺环保角度,干式是物理清洁方式,湿式则是化学性处理方式,所以干式清洗不容易损害产品。

	       亲,如果您对等离子体表面处理机有需求或者想了解更多详细信息,欢迎点击普乐斯的在线客服进行咨询,或者直接拨打全国统一服务热线400-816-9009,普乐斯恭候您的来电!

 射流等离子清洗机外壳
射流等离子清洗机外壳 真空等离子清洗机报警灯
真空等离子清洗机报警灯 医用导管等离子清洗机 PLAUX-PT1800
医用导管等离子清洗机 PLAUX-PT1800 【普乐斯】卷对卷低温等离子表面处理机
【普乐斯】卷对卷低温等离子表面处理机 【普乐斯】半导体真空等离子清洗机设备 VPC-500F8
【普乐斯】半导体真空等离子清洗机设备 VPC-500F8 【普乐斯】桌上型真空等离子清洗机-PMT-100
【普乐斯】桌上型真空等离子清洗机-PMT-100 【普乐斯】准辉光实验大气等离子清洗机PLAUX-CTP-2000
【普乐斯】准辉光实验大气等离子清洗机PLAUX-CTP-2000 【普乐斯】射流大气等离子体清洗机设备-SZ-300
【普乐斯】射流大气等离子体清洗机设备-SZ-300 【普乐斯】EPDM低温等离子表面处理机-PG-1000ZE
【普乐斯】EPDM低温等离子表面处理机-PG-1000ZE 【普乐斯】等离子清洗机仪器PM/R-T5LN01
【普乐斯】等离子清洗机仪器PM/R-T5LN01