设备由电源、真空反应室、气体系统、真空系统、电脑控制系统等多个模块组成。
电源也就是等离子发生器，设备的核心部件，用来产生等离子体。
真空反应室是用来处理产品的空间，密封性要做好。
气体系统是控制工艺气体及反应气体的装置。
真空系统控制反应室内部气体压强及流量的装置。
电脑控制系统正泰设备的大脑，控制设备运行、配方等等数据。
清洗事项：注意清洗要点，了解清洗要求，不能将无法处理的产品放置进入，避免污染整个气体系统。
操作事项：设备操作严格安装厂家要求，不要轻易改动气体配方、流量、管道等，以免造成处理失误，造成产品瑕疵。
保养事项：设备在使用过程中，需要定期进行保养维护，密封性、洁净度等，各类配件也需要定期检查。
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