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0326-08

光模块隐性不良根源：肉眼看不见的纳米界面污染，才是老化失效的真凶 很多光模块封装厂都遇到过相似难题：产品电测、外观、光学参数出厂全部合格，但经过高低温、湿热、长期通电老化后，批量出现光衰变大、透镜偏移、胶水分层、气密漏气、键合拉力衰减等...
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3126-07

PCB线路板行业｜等离子清洗在PCB/FPC生产中的核心应用 随着高密度PCB、FPC柔性线路板、高频高速板普及，线路精细度、孔壁质量、粘接可靠性要求越来越高。传统水洗、研磨、化学除胶工艺，容易出现药水残留、孔壁过蚀、板材吸潮分层等问题，已经无法满足高端电路板生产标准，等离子处理逐步成为行业通用刚需工艺。...
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3026-07

半导体封装良率提升关键！等离子清洗如何解决芯片虚焊、分层、键合不良问题 随着半导体芯片制程不断微缩，封装精度、洁净度要求达到纳米级别。传统水洗、擦拭、吹气工艺，已经无法满足精密芯片封装的界面洁净需求。等离子清洗凭借干式超净、低温无损伤、无死角处理优势，已成为半导体晶圆、固晶、键合、塑封、底部填充必不可少的前置工艺。...
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2926-07

等离子清洗机在光模块行业的四大应用领域及工艺价值 随着AI算力产业高速发展，800G、1.6T高速光模块加速普及，CPO共封装技术逐步落地商用。高速光通信器件对封装精度、界面洁净度、光学稳定性、长期可靠性的要求大幅提升。...
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2826-07

光芯片粘接虚焊、脱晶、键合拉力不足？等离子预处理解决方案 光芯片、陶瓷基板、PCB 载板是光模块核心有源载体，固晶、引线键合属于封装最关键工序。工件表面微量氧化、有机残渣，是虚焊、脱晶、接触电阻漂移、高速信号劣化的主要诱因，等离子清洗成为行业标配前置工艺。...
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2726-07

看不见的纳米污染，才是精密产品老化失效的真正元凶 普通工艺只能保证当下良品，等离子工艺才能保证长期可靠，想要稳定良率、降低老化报废，前置等离子预处理是最高性价比的解决方案。...
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2426-07

算力时代光通信产业全景解读｜从光芯片到光模块，国产封装制造迎来升级窗口期 大模型、智算中心持续扩容，海量 GPU 之间的数据交换催生指数级带宽需求。电互联受限于衰减、功耗瓶颈，“光通信成为 AI 算力网络底层核心底座”。光通信依靠光纤传输光信号，具备超高带宽、低时延、抗电磁干扰、远距离传输优势，广泛覆盖两大核心市场...
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2326-07

薄膜难粘接、印刷掉墨、镀膜脱落？高分子薄膜等离子表面改性一站式解决方案 柔性显示、锂电、光学、光伏行业大量使用高分子薄膜材料。这类材料大多表面惰性强、表面能低，直接印刷、镀膜、贴合极易出现分层、缩孔、附着力不足。传统电晕处理时效短、容易击穿超薄薄膜；湿法底涂存在溶剂污染、烘干变形问题。真空 / 在线卷对卷等离子处理，干式低温改性，适配各类超薄高分子薄膜。...
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2226-07

TOSA/ROSA 工艺流程中，哪些工序必须配置等离子清洗？ TO-CAN 封装广泛应用于 10G/25G/100G/400G 光发射、接收器件，生产流程环环相扣，脱键、气密漏气、透镜老化偏移、光功率衰减等不良，大多源于关键工序前缺少表面预处理。本文沿着标准 TO 封装流水线，梳理4 处核心等离子工位、处理目标与工艺选型。...
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2126-07

TO 封装 TOSA/ROSA 量产不良根治！等离子清洗解决芯片、透镜、管座全表面问题 在键合、耦合、气密老化测试中频繁出现脱键、光功率衰减、气密漏气、透镜偏移等报废问题，根源均是工件表面纳米级污染、氧化、低表面能缺陷，传统擦拭、吹扫无法根除，真空等离子可分点位精准解决各类表面隐患。...