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【普乐斯】苏州 等离子去胶机 ASR-36LN01

等离子去胶机 ASR-36LN01

产品简介

品牌:普乐斯
名称:苏州 等离子去胶机
型号:ASR-36LN01
功率: 整机峰值功率13KW
用途:用于去除基片表面刻蚀工艺过程中作为刻蚀材料保护膜的光刻胶掩膜,也可用于基片表面其它有机物的等离子体清洗。

产品特点

v数字及图标多重工艺参数实时显示
v三色灯异常报警功能
v自动/手动操作模式切换
v可存储多套工艺配方
v远程操控,数据导出(可选)
v模块多样化选择,多层托架可选,处理量大

产品参数

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型号 ASR-36LN01
控制系统 控制方式 全自动控制(自动/手动切换)
    PLC(标配)/PC(可选)
  操作系统 Windows 10
  触摸屏 7寸
整机规格 尺寸 W950×D1050×H1700mm
腔体 尺寸  Φ360×D360mm
  材质 铝合金(标配)/不锈钢(可选)
电极 尺寸 W250×D310×H140mm
  层数 2层
托架 材质 铝合金(标配)/石英(可选)
  套数 1套
真空计 皮拉尼式真空计 1个
流量计 MFC质量流量控制器 3个;Ar、N2、O2、CF4(可选)
真空泵 干式泵 1套
发生器 射频 13.56MHz,0~1000W
额定功率 整机峰值功率 13KW
机台供电 三相五线式 AC-380V
选购品 防腐流量计、防腐真空计、防腐真空泵、防腐密封圈、石英舟、温度传感器、慢速泄气阀、慢速抽气阀、钢瓶减压阀、非标法兰、陶瓷紧固件
注:以上参数仅供参考,本公司可能对相关产品参数进行调整,如有变动,恕不再另行通知。若有不明处,欢迎来电询问。

工作原理

在真空状态下,压力越来越小,分子间间距越来越大,分子间力越来越小,等离子清洗设备利用高频源产生的高压交变电场将氧、氩、氢、四氟化碳等工艺气体震荡成具有高反应活性或高能量的等离子体,然后与有机污染物及微颗粒污染物反应或碰撞形成挥发性物质,然后由工作气体流及真空泵将这些挥发性物质清除出去,从而达到表面清洁、活化等目的。如图所示:


应用领域

1. 有机及无机残留物的去除2. 去除残胶以及等离子刻蚀的应用
3. 清洗微电子元件、电路板上的钻孔或铜线框架
4. 提高黏附性,消除键合问题
5. 塑料的表面改性:O2处理以改进涂覆性能
6. 产生亲水或疏水表面等
快速反应,专业配合,精心打造服务生态链
1年质保,终身维护,提供配套服务
承诺到达现场的时限:昆山4小时,苏州8小时,江浙沪24小时,其他区域48小时