
一、等离子体表面刻蚀
1.分类
等离子体表面处理设备的刻蚀功能又可分为物理刻蚀与化学刻蚀两类,物理刻蚀是物理溅射的原理,通过通入氩气等惰性气体,对材料表面进行撞击,从而达到表面的微粗化或打毛的效果,金属材料的表面刻蚀一般就是使用的物理刻蚀;化学刻蚀是指通入具有腐蚀性的气体,如四氟化碳,与材料表面发生化学反应,达到刻蚀的目的,硅材料的表面刻蚀一般使用化学刻蚀。
2.作用
1.分类
等离子体表面处理设备的刻蚀功能又可分为物理刻蚀与化学刻蚀两类,物理刻蚀是物理溅射的原理,通过通入氩气等惰性气体,对材料表面进行撞击,从而达到表面的微粗化或打毛的效果,金属材料的表面刻蚀一般就是使用的物理刻蚀;化学刻蚀是指通入具有腐蚀性的气体,如四氟化碳,与材料表面发生化学反应,达到刻蚀的目的,硅材料的表面刻蚀一般使用化学刻蚀。
2.作用
通过等离子体的表面刻蚀作用,可以对材料表面进行凹蚀蚀刻,提高材料间的粘接力与可靠性,同时也可以提升产品的良率与品质。

二、等离子体表面涂覆
当材料表面需要形成一层亲疏水或其他性质的保护层与沉积层时,就需要用到等离子体表面涂覆的功能。等离子体表面涂覆的原理是通入两种及两种以上的气体同时进入反应腔体,在等离子环境中聚合形成新的物质层,因为形成的是一层新的保护层,因此不存在时效性问题,这与等离子体表面活化的活化基团有区别。
等离子体表面涂覆的功能在燃料容器、防刮表面、类似于聚四氟即PTFE材质的涂镀、防水镀层应用较多。

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