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某企业手机摄像头模组等离子清洗

来源:未知 日期:2018-07-17 10:13 

随着智能手机的飞速发展,人们对手机拍摄图片的质量要求越来越高,COB/COG/COF工艺制造的手机摄像模组已被大量运用到千万像素的手机中。等离子体技术在这些工艺制程中的作用越来越重要,滤光片、支架、电路板焊盘表面的有机污染物去除,各种材料表面的活化和粗化,进而达到改善支架与滤光片的粘接性能,提高打线的可靠性,以及手机模组的良率等目的。

工艺流程:


手机摄像模组支架清洗:去除有机物,活化材料表面,提高亲水性和黏附性能,防止溢胶。

支架摆放 等离子处理中 等离子处理前:70.5° 等离子处理后:42°

手机摄像模组W/B前清洗:去除有机物,提高W/B结合力,确保打线可靠性。
方案一:多层水平电极+筛网托架
工件 水平放置 等离子处理前:74.5° 等离子处理后:

方案二:多层料盒

料盒 等离子处理中 等离子处理前:74.5° 等离子处理后:18°