-
查看详情
1819-09
等离子刻蚀中影响氮化硅侧壁蚀刻倾斜度的参数有哪些? 等离子表面处理系统能够完成表面清洗、活化、刻蚀以及涂镀等诸多功能,依据所需处理的材料与处理的目的,等离子表面处理系统能够完成不同的处理效果。等离子表面处理设备在半导体方向的使用有等离子刻蚀、显影、去胶、封装等。 等离子刻蚀 工艺在半导体集成电路中,既能够刻蚀上表层的光刻胶,也能够刻蚀基层的氮化硅层,不仅如此还需要防止其对硅衬底造成刻蚀损...
-
查看详情
1819-09
氮化硅有何特点?等离子表面处理设备是如何刻蚀氮化硅的? 氮化硅(Si3N4)的材料特点:氮化硅是当前较为热门的新材料之一,具有密度小、硬度大、弹性模量高、热稳定性好等特点,在诸多范畴都有使用。在晶圆制作中,氮化硅可代替氧化硅使用,因其硬度高,可在晶圆外表形成十分薄的氮化硅薄膜(在硅片加工中,使用zui为广泛的描绘薄膜厚度的单位是埃),厚度约在数十埃,保护外表,防止划伤,此外其杰出的绝缘强度和抗氧化才...
- 共1页/2条
热门产品
推荐资讯
- 2023-08-28 led支架等离子体蚀刻机的优势和市场前景
- 2023-08-02 PTFE内衬管超亲水处理工艺
- 2023-06-09 等离子刻蚀技术是什么
- 2022-08-17 宝马的智能化之路,等离子表面处理设备在芯片工艺上大有作为!
- 2019-07-07 真空等离子清洗机的三种平板式电极结构
- 2021-01-12 等离子清洗机处理会对材料特性有所损伤吗?
- 2020-01-19 普乐斯等离子表面处理机行业观察,特斯拉或将产中国风汽车
- 2023-07-31 Ptfe医疗导管等离子表面处理设备